内存技术终极博弈:突破瓶颈,掌控未来计算命脉!

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内存技术终极博弈:突破瓶颈,掌控未来计算命脉!

内存技术前沿:解密行业最新战况

内存技术终极博弈:突破瓶颈,掌控未来计算命脉!

作者 | 金捷幡

来源 | 金捷幡(ID:jin-jiefan)

嘿,你是否觉得内存技术离你很远?其实,它正悄无声息地推动着计算世界的每一次飞跃!《内存的故事》三年前已开启序幕,今天,让我们聚焦这场技术革命的近况,一探究竟。

内存技术终极博弈:突破瓶颈,掌控未来计算命脉!

内存领域当前面临哪些核心挑战?

“内存”这个俗称,主要承担两大使命:为程序运行提供空间(如DRAM)和为数据存储提供阵地(如NAND)。

NAND进入3D时代后,容量瓶颈基本突破,我们稍后再详谈。

眼下最棘手的正是DRAM:单位价格容量增长缓慢,速度远远落后于CPU。这在商用领域尤为突出——数据中心、超级计算和运营商网络备受困扰。

更糟的是,DRAM能耗居高不下,每个时钟周期都得为微小电容重新充电。

电费已成商业用户的核心成本;在移动设备上,DRAM更是电池续航的“隐形杀手”。

历史上,DRAM为提升带宽不惜牺牲延迟,那增大缓存呢?可惜,SRAM与CPU纠缠过深,成本高昂,六个晶体管才存一个比特。英特尔至强处理器的缓存,仅为DRAM的千分之一。

就连强大的IBM Power 9 CPU,24核仅配120MB L3缓存,代价是芯片面积达700mm²,是苹果A13的七倍!

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Power9中L2/L3占这么大面积才100多M

内存行业的核心矛盾日益尖锐:对容量、速度和功耗的需求飙升,DRAM技术却陷入瓶颈。

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DDR5:缓慢进化中的曙光

DRAM的局限性让技术进步举步维艰。从DDR3到DDR4耗时五年;DDR4自2012年发布,DDR5至今仍未全面上市(注:GDDR5显存仅是DDR3变种)。

DRAM标准由JEDEC JC-42工作组制定,但节奏实由英特尔主导——原因很简单,英特尔掌控PC路线图,CPU或北桥芯片决定何时支持新内存。

借助半导体工艺进步,DDR5核心电压从DDR4的1.2V降至1.1V,有望节省20%功耗。

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DDR5可使系统通道数翻倍,图:Micron

DDR5将Burst Length和预读取从DDR4的8n提升至16n,同等频率下带宽翻倍。为应对高速信号干扰,它还引入了核心时钟优化。片上ECC功能更是服务器的福音。

但这带来更多设计、测试与兼容性挑战,需CPU(含内存控制器)大幅改动,预计2022年方能落地。

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LPDDR5:移动战场的低功耗角逐

LPDDR5单独成篇,因从LPDDR4起已与标准DDR分道扬镳。

尽管LPDDR5与DDR5共享技术,但侧重点迥异:LPDDR5功耗优先、速度次之;DDR5则速度至上、功耗居后。

LPDDR4已实现16n预读取,LPDDR5靠Bank group提升速度。它追求极致低功耗,供电与核心电压均低于DDR5。

x86领域被英特尔拖慢节奏,手机战场却硝烟弥漫——激烈竞争与年度旗舰发布,催生技术狂奔。

LPDDR5便是明证。小米10首发LPDDR5堪称重磅,彰显高通的激进策略。一加8和三星S20迅速跟进,奠定高端基调。

华为处境微妙:美光主导LPDDR5供应,三星优先自用,海力士专注DDR5。LPDDR5短缺下,华为下一代麒麟芯片如何抉择?产品规划面临两难。

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HBM:高性能计算的带宽利器

游戏与高性能计算渴求带宽,高带宽内存(HBM)以卓越方案绕开DRAM传统IO演进。

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图:AMD

HBM与处理器封装合一,突破引脚限制,打破IO带宽瓶颈。DRAM与CPU/GPU物理接近,速度再跃升。

尺寸上,HBM让系统设计大幅缩小。目前,HBM2与GDDR6激战正酣。但最新消息显示,Xbox Series X和PS5仍选GDDR6,或许是成本所致。

长远看,DRAM急需3D化——2D制造(昂贵10nm瓶颈)已近天花板。

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NVDIMM:服务器内存的扩容奇兵

云计算虚拟机与内存数据库兴起,服务器对内存容量如饥似渴。但DRAM成本难降,如何低成本配置大内存?

混搭NVDIMM应运而生。NVDIMM-F直接用NAND替代DRAM内存条,成本极低,但速度慢且受系统DRAM容量限制。

NVDIMM-N在内存条添加NAND,为DRAM做镜像存储,防断电数据丢失。但它不扩容内存,且占用通道带宽。

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JEDEC NVDIMM-N示意图

终极方案是NVDIMM-P,支持超大容量(如1TB),并允许用NAND、RRAM、MRAM等替代DRAM。JEDEC标准尚未出炉,但英特尔已发布基于3D-Xpoint的Optane DIMM,凭借平台优势筑高竞争门槛。

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3D-Xpoint与其他NV内存:暗战与新机

3D-Xpoint号称速度比NAND快千倍,英特尔和美光对其原理守口如瓶。初始猜测为3D NOR,后普遍认为是相变内存(PCM)或RRAM。

市面上未见芯片剖析。直到一份案卷披露,发明人竟是当代爱迪生Stanford Ovshinsky。清算公司指控英特尔和美光在其公司破产处理中隐瞒关键信息。

与美光分家后,英特尔将3D-Xpoint转至大连厂独家生产,未来或有更多传闻。

3D-Xpoint在服务器领域潜力巨大,但降低成本是关键。MRAM、FRAM等NV内存则进军物联网、汽车与工业领域。

MRAM工艺类似传统MOS半导体,利于扩产降本,有望在嵌入式应用中取代部分NOR、SRAM或DRAM。

更快的PCM和RRAM能取代NAND吗?短期内难实现——存储对速度要求不高,而3D NAND凭借低成本容量暴增,已获巨大成功。

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图:对比不同内存的成本和速度

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3D NAND:存储领域的颠覆性跃进

对3D NAND,单元缩小已无意义,无需尖端制程。海力士称,未来可叠800层。

“盖楼”过程中,光刻环节减少,沉积与蚀刻工序大增——蚀刻之王泛林成最大赢家。

这也导致DRAM与NAND产线产能无法灵活互补。蚀刻百层楼梯与长孔充满挑战:楼梯连接位线,长孔则是著名充电陷阱。

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英飞凌/奇梦达曾用以色列Saifun技术量产充电陷阱闪存,但当时技术不成熟,擦写寿命仅为浮栅的1/10。Jim Handy指出,该蚀刻孔工艺源自沟槽技术。

内存60年变迁中,IBM、英飞凌、东芝和AMD早期结盟。奇梦达以沟槽技术孤军奋战最终落败,但蚀刻技术得以延续:AMD后继者Spansion用于NOR闪存,东芝则打造领先的BiCS 3D NAND。

如今,仅英特尔坚守浮栅。每层需光刻的工艺复杂度,恐使其失去竞争力,退出市场或难避免。

长江存储128层Xtacking技术引人注目——它将存储阵列与控制电路分离,大幅缩短开发周期,但量产挑战不小。若采用晶圆键合,即使忽略键合良率,成品良率也需两片晶圆相乘。

3D NAND的延续与DDR5标准难产,为中国内存业提供绝佳追赶窗口。欣喜的是,长鑫存储已量产主流DDR4,其在知识产权与专利上的布局更显远见。

脚踏实地,志存高远,正是内存行业的不二法门。

参考阅读:

《内存的故事》

《内存的故事》-Rambus

《内存的故事》-金士顿

声明:本文系作者独立观点,不代表CSDN立场。

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